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C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機精密光刻設(shè)備
簡要描述:

C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機精密光刻設(shè)備針對各大專院校、企業(yè)及科研單位。對光刻機使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機,三層減震,組合式,拆卸方便。
它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn),適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光,而且也適合易碎片如:砷化鉀、磷化銦的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-09-09
  • 訪  問  量:362

詳細(xì)介紹

品牌crisoptical/長恒榮創(chuàng)光源高壓水銀直流汞燈
照明范圍≤ф100mm≤ф100mmф100mm內(nèi)±3%
對準(zhǔn)精度1μm套刻精度1μm
主機電源220V±10%重量≤100Kg

C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機精密光刻設(shè)備

C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機精密光刻設(shè)備主要用途:


 本機針對各大專院校、企業(yè)及科研單位。對光刻機使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機,三層減震,組合式,拆卸方便。


 它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn),適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光,而且也適合易碎片如:砷化鉀、磷化銦的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。



C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機精密光刻設(shè)備主要性能指標(biāo):


1. 多種版夾盤


 C-25X200型4英寸光刻機有四種版夾盤,能真空吸附5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"或2.5" ×2.5"方形掩板。對版的厚度無特殊要求(1~4mm皆可)。


C-25X200型6英寸光刻機有六種版夾盤,能真空吸附7" ×7"或6" ×6"或5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"或2.5" ×2.5"方形掩板。對版的厚度無特殊要求(1~4mm皆可)。



2. 真空吸附基片的“承片臺"


 C-25X200型4英寸光刻機設(shè)有相對應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺"三個,分別適用于φ2、φ3、φ4片。對于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片,只要堵塞相應(yīng)的小孔,同樣能真空吸附。


 C-25X200型6英寸光刻機設(shè)有相對應(yīng)的真空吸附基片的“承片臺"五個,分別適用于φ2、φ3、φ4、φ5、φ6片。對于非標(biāo)準(zhǔn)片或碎片,只要堵塞相應(yīng)的小孔,同樣能真空吸附。



3. 照明


 光源:采用GCQ350Z型超高壓水銀直流汞燈。

照明范圍:≤ф100mm


不均勻性:ф100mm內(nèi)±3%


可使用的波長:g線、h線、I線的組合。根據(jù)用戶要求,可增加I線濾光片。


成象面照明:光照度10~15毫瓦/厘米2,任意可調(diào)(出廠時,照明度調(diào)在10mw/cm2)。

曝光分辨率:1μm


對準(zhǔn)精度: 1μm


 套刻精度: 1μm



4. 采用進(jìn)口時間繼電器(該繼電器可從0.1秒∽999.9秒預(yù)設(shè))控制氣動快門,動作準(zhǔn)確可靠。



5. 該機為接觸式曝光機,但可實現(xiàn):


硬接觸曝光:用管道真空來獲得高真空接觸。真空≤-0.05MPa。


軟接觸曝光:接觸壓力可將真空降到-0.02MPa ~ -0.05MPa之間。


微力接觸曝光:小于軟接觸。真空≥-0.02MPa。



6. 分辯率估計


如果用戶的“版"、“片"精度符合國家規(guī)定,環(huán)境、溫度、濕度、塵埃得到嚴(yán)格控制,采用進(jìn)口正性光刻膠,且勻膠厚度得到嚴(yán)格控制。加之前后工藝先進(jìn)的話,硬接觸曝光的最小分辨度可達(dá)1μm以上



7. 對準(zhǔn)


觀察系統(tǒng)為兩個單筒顯微鏡上裝二個CCD攝像頭,通過視屏線連接到顯視屏上。


a.單筒顯微鏡為0.7X~4.5X連續(xù)變倍顯微鏡(也可為1.6X~10X)。


b.CCD攝像機靶面對角線尺寸為:1/3,(6mm);


c.采用19"液晶監(jiān)視器,其數(shù)字放大倍率為19÷1/3=57倍;


d.觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為:0.7×57≈40倍(最小倍數(shù)),4.5×57≈256倍(最大倍數(shù))或(91倍~570倍)。


對準(zhǔn)臺:(采用片動,版不動方式)


X、Y調(diào)整:±5mm。


θ調(diào)整:轉(zhuǎn)角≤5°


對準(zhǔn)間隙(分離間隙)0~5mm任意可調(diào)。


整個對準(zhǔn)臺相對于顯微鏡可作±20mm掃描運動。


“接觸、分離"20μm情況下,片相對于版的“漂移量",可調(diào)到≤±0.5μm。



8. 設(shè)備所需能源:


主機電源: 220V±10%   50HZ


潔凈空氣≥0.4MPα。


真空:-0.07~-0.08MPα。



9. 尺寸和重量:


尺寸:機體720 mm(長)×720 mm(寬)×882mm(高)。


重量:≤100Kg。


機體放在專用工作臺上。


工作臺:1100 mm(長)×750 mm(寬)×645 mm(高)。


高度可調(diào)范圍0~30mm。


重量50Kg(工作臺后側(cè)裝有電氣部分)。


總重量≤200Kg



10. C-25X200型光刻機的組成


 主機


主機(含機體和工作臺)


對準(zhǔn)用單筒顯微鏡


蠅眼曝光頭


 附件


主機附件


3"□型掩版夾盤


4"□型掩版夾盤(出廠時安裝到機器上)


用于2"基片的真空夾持承片臺。


用于3"基片的真空夾持承片臺(出廠時安裝到機器上)


(若需特殊的基片承片臺,訂貨時用戶提出)


顯微鏡組成


單筒顯微鏡二個


兩個CCD


視頻連接線。


計算機和22"液晶監(jiān)視器。



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